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第一章 原子发射光谱分析原理9

§1.1 原子结构和原子光谱9

1.1.1 玻耳原子和氢原子光谱9

1.1.2 电子运动及定态14

1.1.3 原子的电子壳层结构18

1.1.4 钠原子光谱19

1.1.5 原子的量子力学理论简述22

§1.2 光谱线的激发24

1.2.1 激发方法24

1.2.2 激发机构25

1.2.3 热激发26

1.3.1 谱线强度28

§1.3 谱线的特性28

1.3.2 谱线宽度32

1.3.3 谱线的自吸和自蚀35

第二章 摄谱仪40

§2.1 概述40

2.1.1 摄谱仪一般结构原理40

2.1.2 摄谱仪的分类41

2.1.3 摄谱仪的主要性能指标41

§2.2 棱镜摄谱仪43

2.2.1 色散棱镜43

2.2.2 棱镜摄谱仪的线色散率、分辨率及谱线放大率64

2.2.3 几种常用棱镜摄谱仪69

§2.3 光栅摄谱仪72

2.3.1 衍射光栅72

2.3.2 衍射光栅色散系统86

2.3.3 光栅装置和光栅摄谱仪97

2.3.4 光栅摄谱仪的线色散率和实际分辨率110

§2.4 棱镜摄谱仪和光栅摄谱仪性能比较115

2.4.1 棱镜摄谱仪的主要优缺点115

2.4.2 光栅摄谱仪的主要优缺点115

§2.5 看谱镜116

2.5.1 棱镜看谱镜116

2.5.2 光栅看谱镜119

§2.6 狭缝及其照明和光谱仪器的光强122

2.6.1 狭缝122

2.6.2 狭缝照明特性对谱线结构的影响125

2.6.3 狭缝照明132

2.6.4 光谱仪的光强138

2.7.1 狭缝的使用和维护143

§2.7 摄谱仪器的使用及维护143

2.7.2 光学零件的维护144

2.7.3 摄谱仪器的防锈防蚀146

§2.8 观测仪器146

2.8.1 比长仪或测量显微镜147

2.8.2 光谱投影仪149

2.8.3 测微光度计149

第三章 光源153

§3.1 光源概述153

3.1.1 光源的作用153

3.1.2 对光源的要求154

3.1.3 光源的类型155

3.2.2 直流电弧的基本特性156

3.2.1 直流电弧的引燃156

§3.2 直流电弧156

3.2.3 直流电弧的优缺点和应用161

§3.3 交流电弧和低压火花162

3.3.1 交流电弧162

10.5.4 干扰元素的修正163

3.3.2 低压火花165

3.3.3 典型交流电弧发生器171

3.3.4 光电光谱分析用光源简介179

§3.4 高压火花182

3.4.1 高压火花的工作原理182

3.4.2 典型高压火花发生器介绍185

3.4.3 高压火花的放电特性和应用194

3.4.4 高重复率高压火花和可控波形高压火花原理195

§3.5 多性能光源197

3.5.1 主要性能指标198

3.5.2 工作状态198

3.5.3 电路原理图199

3.5.4 发生器操作程序及要点200

3.5.5 典型放电的电压电流波形201

§3.6 常用光源的选择与维护201

3.6.1 光源的选择201

3.6.2 光源的维护204

§3.7 辉光放电光源和空心阴极光源206

3.7.1 低气压放电207

3.7.2 Grimm辉光放电管209

3.7.3 空心阴极光源211

4.1.1 光谱干板的构造217

§4.1 光谱干板217

第四章 光谱干板和暗室处理217

4.1.2 乳剂特性曲线219

4.1.3 光谱干板的技术指标230

§4.2 乳剂的感光作用及暗室处理235

4.2.1 乳剂的感光作用235

4.2.2 显影237

4.2.3 定形249

§4.3 黑度换值257

第五章 光谱定性分析和半定量分析260

§5.1 试样的处理及引入分析间隙的方法260

5.1.1 固体试样260

§5.2 光谱定性分析原理及类型261

5.1.3 溶液试样263

5.1.2 粉末试样263

§5.3 定性分析试验条件的选择265

5.4.1 迁移试样法原理267

§5.4 迁移试样法267

5.4.2 取样条件268

5.4.3 摄谱条件269

§5.5 译谱269

5.5.1 单元素定性分析的译谱269

5.5.2 金属或合金材料测定的译谱271

5.5.3 波长表及铁谱图的应用277

§5.6 看谱分析简介279

第六章 光谱定量分析281

§6.1 光谱定量分析的基本原理281

6.1.1 罗马金——赛伯公式281

6.1.2 内标法282

§6.2 光谱定量分析方法283

6.2.1 摄谱分析时分析线对相对强度的测定283

6.2.2 三标准试样法283

6.2.3 持久曲线法284

6.2.4 控制试样法286

6.2.5 光度插入法290

6.2.6 诱导含量法293

6.2.7 单标准法296

6.2.8 二谱线法297

6.2.9 分部曝光法298

6.2.10 增量法300

§6.3 光谱背景及其扣除305

6.3.1 产生背景的原因306

6.3.2 背景的影响306

6.3.3 背景的扣除307

6.3.4 背景的抑制310

§6.4 合金的基体波动对光谱分析的影响311

§6.5 光谱分析操作规程的编制315

第七章 光谱分析用标准物质327

§7.1 概述327

7.1.1 标准物质的定义327

7.1.2 标准物质的作用327

7.1.3 光谱分析标准物质要求328

§7.2 标准物质的制备和检验328

7.2.1 标准物质的制备329

7.2.2 标准物质的检验332

7.2.3 光谱标准物质成分定值342

§8.1 误差理论基础知识343

8.1.1 真值？观测值平均值343

第八章 误差、数据处理及统计检验基础知识343

8.1.2 误差及其分类346

8.1.3 随机误差的表示方法349

8.1.4 随机误差的正态分布及高斯方程354

8.1.5 置信度及置信区间358

8.1.6 精密度准确度360

8.1.7 光谱定量分析中的随机误差363

§8.2 数据处理基础知识365

8.2.1 有效数字及处理准则365

8.2.2 分析结果的数据处理368

8.2.3 工作曲线的计算369

§8.3 统计检验374

8.3.1 统计检验概述374

8.3.2 x2分布检验376

8.3.3 F分布检验378

8.3.4 t分布检验381

8.3.5 统计检验在光谱分析数据处理中的应用385

8.3.6 异常数据的鉴别和剔除391

§8.4 系统误差399

8.4.1 光谱分析系统误差的来源和分类399

8.4.2 系统误差的检验方法400

8.4.3 系统误差的评定及校正404

第九章 电感耦合高频等离子体发射光谱分析421

§9.1 等离子体的一般概念421

§9.2 ICP—AES的产生和发展421

§9.3 ICP光源光谱分析特点422

§9.4 ICP的形成424

§9.5 ICP的环状结构、放电温度和电子密度的空间分布424

§9.6 ICP放电中的激发和电离机理427

§9.7 ICP发射光谱仪434

9.7.1 高频发生器434

9.7.2 炬管436

9.7.3 溶液气溶胶进样系统436

§9.8 ICP—AES的应用438

第十章 光电光谱分析441

§10.1 光电光谱分析基本原理及适用范围441

10.1.1 概述441

10.1.2 光电光谱仪的类型442

10.1.3 光电光谱分析的特点和应用范围443

§10.2 光电光谱分析的光源445

§10.3 分光计446

10.3.1 光电光谱仪分光计的基本结构446

10.3.2 分光计的安装调整452

§10.4 测光系统453

10.4.1 概述453

10.4.2 测量系统各单元原理、要求454

10.4.3 测量的基本原理455

§10.5 光电光谱定量分析方法456

10.5.1 三标准试样法457

10.5.2 工作曲线标准化459

10.5.3 控制试样法462

§10.6 应用及实例466

11.1.1 X射线光谱的发展历史469

§11.1 概述469

第十一章 X射线荧光光谱分析469

11.1.2 X射线光谱分析的特点470

§11.2 X射线的物理基础470

11.2.1 X射线光谱470

11.2.2 X射线的性质473

11.2.3 荧光产额与俄歇效应477

§11.3 X射线荧光光谱仪477

11.3.1 X射线管478

11.3.2 准直器480

11.3.3 分光晶体481

11.3.4 探测器483

11.3.5 记录系统488

11.4.1 定性分析491

§11.4 分析方法491

11.4.2 定量分析493

§11.5 能量色散X射线分析499

11.5.1 概述500

11.5.2 激发源501

11.5.3 探测器及数据处理系统502

11.5.4 分析方法503

§11.6 样品制备504

11.6.1 金属及其它块状材料505

11.6.2 粉末样品505

11.6.3 熔融技术506

11.6.4 其他的制样技术506

§11.7 X射线荧光分析工作实例508