图书介绍
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- 李谟介编著（华中师范大学老干处） 著
- 出版社： 武汉：华中师范大学出版社
- ISBN：7562205825
- 出版时间：1990
- 标注页数：258页
- 文件大小：44MB
- 文件页数：265页
- 主题词：薄膜物理学
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图书目录
绪论1
第一章 真空蒸镀和溅射的物理基础4
§1.1真空4
§1.2蒸发7
§1.3蒸发的热力学基础13
§1.4合金的蒸发16
§1.5化合物的蒸发18
§1.6蒸发的辐射分布20
§1.7蒸发粒子向衬底表面的入射分布24
§1.8溅射机理26
§1.9单原子靶的溅射29
§1.10合金及化合物靶的溅射31
§1.11反应性溅射33
第二章 化学气相淀积原理37
§2.1CVD反应类型37
§2.2CVD反应参量42
§2.3CVD的薄膜生长过程45
§2.4等离子体CVD原理49
第三章 薄膜的形成55
§3.1薄膜形成的大致过程55
§3.2附着56
§3.3核形成的界面能理论60
§3.4聚团理论65
§3.5薄膜形成的几率理论68
§3.6优先核形成73
§3.7核的形态73
§3.8薄膜初期生长的类型77
第四章 薄膜的结构81
§4.1薄膜的结构81
§4.2结晶薄膜中的点缺陷82
§4.3结晶薄膜的位错86
§4.4结晶薄膜的其它缺陷91
§4.5非晶与异常结构薄膜92
第五章 薄膜的力学性质96
§5.1薄膜的附着96
§5.2内应力105
§5.3弹性与内耗115
§5.4拉伸性质119
第六章 金属薄膜的电导121
§6.1不连续薄膜121
§6.2连续薄膜132
第七章 光学薄膜147
§7.1基础理论147
§7.2薄膜光学153
§7.3连续薄膜的光学性质160
§7.4岛状薄膜的光学性质169
§7.5非均质透明薄膜173
§7.6透明导电膜175
第八章 半导体薄膜181
§8.1半导体的特征长度与半导体薄膜的特性181
§8.2多晶半导体薄膜190
§8.3非晶半导体薄膜196
第九章 磁性薄膜198
§9.1薄膜的铁磁性198
§9.2薄膜的磁各向异性203
§9.3薄膜的磁畴与磁畴壁209
§9.4薄膜的磁化过程213
§9.5薄膜的磁共振217
第十章 超导薄膜222
§10.1超导222
§10.2超导薄膜231
§10.3隧道效应234
§10.4约瑟夫逊效应241
附表245