图书介绍
类金刚石膜的制备、性能与应用PDF|Epub|txt|kindle电子书版本网盘下载
- 彭鸿雁，赵立新著 著
- 出版社： 北京：科学出版社
- ISBN：7030137590
- 出版时间：2004
- 标注页数：142页
- 文件大小：11MB
- 文件页数：152页
- 主题词：金刚石－薄膜－制备－基本知识
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图书目录
第一章 类金刚石膜概述1
1.1 类金刚石膜的制备方法2
1.2 类金刚石膜的性能16
1.3 类金刚石膜的应用19
参考文献22
第二章 场发射研究进展26
2.1 场发射的理论26
2.2 场发射平板显示阴极材料的发展状况34
2.3 冷阴极场发射显示器件的研究进展39
参考文献41
第三章 激光溅射制膜技术研究进展45
3.1 PLD基本原理及物理过程45
3.2 PLD技术制备薄膜材料的优、缺点47
3.3 PLD技术在功能薄膜研究中的应用48
参考文献56
第四章 激光溅射制备类金刚石膜生长理论与实验设备58
4.1 激光溅射制备类金刚石膜生长理论及文献综述58
4.2 激光溅射制备类金刚石膜实验设备及工艺64
4.3 类金刚石膜性能测试手段67
参考文献74
第五章 高功率高重复频率脉冲准分子激光制备类金刚石膜研究78
5.1 实验参数对DLC膜制备的影响78
5.2 最佳工艺条件下沉积的类金刚石膜的性能94
5.3 本章小结97
参考文献98
第六章 类金刚石膜冷阴极场发射特性研究100
6.1 类金刚石膜场发射性能101
6.2 氢对类金刚石膜场发射性能的影响106
6.3 氮掺杂对类金刚石膜的结构、性能及场发射性能的影响115
6.4 本章小结125
参考文献125
第七章 类金刚石膜冷阴极场发射平板显示器件设计与制作127
7.1 简单二极管结构FED器件128
7.2 矩阵选址二极管结构133
7.3 本章小结139
参考文献139
第八章 总结与展望140