图书介绍
真空镀膜设备PDF|Epub|txt|kindle电子书版本网盘下载
- 张以忱编著 著
- 出版社： 北京：冶金工业出版社
- ISBN：9787502450144
- 出版时间：2009
- 标注页数：206页
- 文件大小：17MB
- 文件页数：217页
- 主题词：真空技术－镀膜－设备
PDF下载
下载说明
真空镀膜设备PDF格式电子书版下载
下载的文件为RAR压缩包。需要使用解压软件进行解压得到PDF格式图书。建议使用BT下载工具Free Download Manager进行下载,简称FDM(免费,没有广告,支持多平台）。本站资源全部打包为BT种子。所以需要使用专业的BT下载软件进行下载。如BitComet qBittorrent uTorrent等BT下载工具。迅雷目前由于本站不是热门资源。不推荐使用！后期资源热门了。安装了迅雷也可以迅雷进行下载！
（文件页数 要大于 标注页数，上中下等多册电子书除外）
注意：本站所有压缩包均有解压码： 点击下载压缩包解压工具
图书目录
1 真空镀膜设备设计概述1
2 真空镀膜室结构设计计算3
2.1 基本设计原则3
2.2 镀膜室的材料选择与焊接要求3
2.2.1 材料选择3
2.2.2 焊接要求4
2.3 镀膜室壁厚的计算4
2.3.1 镀膜室的计算壁厚4
2.3.2 镀膜室的实际壁厚与壁厚附加量5
2.3.3 镀膜室的最小壁厚5
2.4 圆筒形镀膜室壳体的设计计算6
2.4.1 圆筒形镀膜室基本设计参数6
2.4.2 圆筒形镀膜室的强度（壁厚）计算7
2.4.3 外压圆筒加强圈的设计11
2.4.4 筒体加工允许偏差11
2.4.5 镀膜室封头的壁厚计算12
2.5 圆锥形壳体的设计14
2.6 盒形壳体设计15
2.7 压力试验18
2.8 真空镀膜室门设计19
2.9 真空镀膜室的冷却21
3 镀膜室升降机构的设计23
3.1 立式镀膜机真空室的升降机构23
3.1.1 机械升降机构23
3.1.2 液压升降机构24
3.1.3 气动液压相结合的升降机构26
3.2 真空室的复位26
4 镀膜室工件架的设计28
4.1 常用工件架28
4.1.1 球面行星传动工件架28
4.1.2 摩擦传动工件架30
4.1.3 齿轮传动工件架31
4.1.4 拨杆传动工件架32
4.2 工件架的转速33
5 真空镀膜机的加热与测温装置34
5.1 加热方式及其装置34
5.2 测温方式与装置38
5.3 真空室内引线设计40
6 真空镀膜机的挡板机构41
7 真空镀膜机的抽气系统设计43
7.1 镀膜设备用真空系统43
7.1.1 普通镀膜设备用典型高真空系统43
7.1.2 超高真空系统44
7.2 真空镀膜机抽气系统的设计48
7.2.1 真空镀膜设备对抽气系统的要求48
7.2.2 镀膜机抽气系统的放气量计算49
7.2.3 真空泵的选择51
8 真空室内电和运动的导入导出结构设计56
8.1 电导入导出结构设计56
8.1.1 电导入导出结构设计要求56
8.1.2 电导入导出部件的结构形式58
8.2 运动导入导出结构设计66
8.2.1 常规转轴动密封导入导出结构66
8.2.2 磁流体动密封运动导入导出结构68
8.2.3 金属波纹管密封柔性运动导入导出结构72
8.2.4 磁力驱动动密封运动导入导出结构77
9 充布气系统设计82
9.1 充布气系统设计原则82
9.2 充布气系统结构设计84
9.2.1 充布气系统类型及结构84
9.2.2 布气管路结构形式87
9.2.3 充布气管路分析计算88
9.3 充气控制方式设计89
9.3.1 封闭式气压稳定充气控制89
9.3.2 质量流量控制器充气控制91
9.4 真空室内充大气时间计算94
10 电磁屏蔽结构设计96
10.1 真空镀膜设备屏蔽概述96
10.2 电磁辐射屏蔽设计96
11 蒸发源的设计计算99
11.1 电阻加热式蒸发源的热计算99
11.2 e型枪蒸发源的设计计算100
11.2.1 灯丝参数计算100
11.2.2 磁偏转线圈及灯丝位置的确定103
11.2.3 膜材蒸发时所需热量105
11.2.4 e型枪蒸发源的水冷却106
11.2.5 e型枪蒸发源的电源106
11.2.6 多枪蒸发源的设计安装107
11.3 感应加热式蒸发源的结构设计109
11.3.1 坩埚设计110
11.3.2 电源及其频率的选择111
11.4 蒸发源的蒸发特性及膜厚分布113
11.4.1 点蒸发源的膜厚分布113
11.4.2 小平面蒸发源膜厚分布115
11.4.3 环形蒸发源117
11.4.4 矩形平面蒸发源123
11.4.5 蒸发源与基片的相对位置124
12 磁控溅射靶的设计126
12.1 靶磁场的设计原则126
12.1.1 磁场强度的选择126
12.1.2 磁场均匀性127
12.1.3 矩形靶弯道磁场设计128
12.1.4 磁场设计改进方法128
12.2 磁控靶的磁场设计计算128
12.2.1 三维直角坐标系中的靶磁场129
12.2.2 矩形平面磁控溅射靶的磁场131
12.2.3 圆形平面磁控溅射靶的磁场计算134
12.2.4 同轴圆柱磁环溅射靶的磁场计算136
12.2.5 同轴圆柱条形磁体溅射靶的磁场计算137
12.2.6 S枪溅射靶的磁场计算145
12.3 平面磁控靶结构改进147
12.3.1 运动磁场的靶结构147
12.3.2 双环组合磁极靶结构150
12.3.3 组合磁场靶结构151
12.3.4 磁场分流靶结构153
12.3.5 其他磁体形式的靶结构154
12.4 永磁体及导磁片设计155
12.4.1 永磁体材料155
12.4.2 导磁垫片156
12.5 阳极与屏蔽罩的设计156
12.5.1 阳极设计156
12.5.2 屏蔽罩设计157
12.6 溅射靶水冷系统的设计与计算157
12.6.1 冷却水流速率的计算158
12.6.2 冷却水管内径的计算159
12.6.3 冷却水管长度160
12.7 靶材的设计选择160
12.7.1 靶材的种类160
12.7.2 靶材的选用原则161
12.7.3 对靶材的技术要求161
12.7.4 靶材与阴极背板的连接164
12.7.5 常用靶材166
12.8 磁控溅射靶设计方法167
12.8.1 靶设计分析方法167
12.8.2 磁控靶设计程序169
13 溅射镀膜的膜厚均匀性设计171
13.1 溅射镀膜不均匀性的原因及影响因素171
13.1.1 磁控靶聚磁现象引起的靶材刻蚀不均匀171
13.1.2 矩形靶材溅射刻蚀不均匀173
13.2 提高膜层（厚）均匀性的措施179
13.2.1 改进和优化靶的设计方法179
13.2.2 溅射靶的优化设计180
13.2.3 选择合适的靶基距183
13.2.4 合理的基片（工件）运动方式192
13.2.5 均匀的基片加热197
13.2.6 合理的布气和排气方式197
13.2.7 增加遮挡机构199
13.2.8 膜沉积监控反馈控制等措施199
参考文献203